ナノ計測アプリケーションにおけるモーション制御の課題への対応

計測およびナノ計測アプリケーションにおいて、より高い精度と制御を達成する傾向が続く中、ナノメートル対応ステージの需要は指数関数的に増加しています。

最先端のセンサー技術の出現により、測定機能はますます高感度になり、サンプルの微細な特徴や偏差の検出と特性評価が可能になりました。 これらの高度なセンサーの可能性を最大限に活用するには、サンプルやセンサーを極めて高い精度と安定性で移動できるモーション コントロール ステージが不可欠です。

ナノメートルレベルの精度を維持しながら数百ミリメートルを移動できる能力は、複雑な測定と微調整を必要とする研究、品質管理、製造プロセスに新たな可能性をもたらします。 その結果、現代の計測学の需要を満たし、さまざまな産業のさらなる進歩を引き出すためには、ナノメートル対応ステージの開発が重要になっています。

動作に不正確さや誤差があると、測定結果に大きな影響を与える可能性があります。 センサーの移動中のわずかなずれや振動でも、不要なノイズやアーチファクトが発生し、測定の全体的な精度が損なわれる可能性があります。

「この課題を克服するには、モーション システムが並外れた精度と安定性を備えて設計されている必要があります。モーション システムはサブナノメートルの分解能を達成し、動作範囲全体にわたって厳しい公差を維持できる必要があります。センサーの精度を上回ることで、これらの高精度は高精度モーション システムにより、得られる測定値がモーション自体によって制限されたり損なわれたりすることがなくなり、研究者や産業界は可能な限り最高レベルの測定精度を達成できるようになります」と ALIO Industries 社長の Bill Hennessey 氏は説明します。

このようなアプリケーション向けに、ALIO は垂直 Z ステージとモノリシック XY ベースを提供します。 ALIO の Z ステージは革新的な設計で際立っており、完全にリニアベースでエア ベアリング システムに匹敵するパフォーマンスを実現する垂直ソリューションを提供します。

Hennessey 氏はさらに、「ALIO の Z ステージを際立たせているのは、その並外れた精度であり、従来の Z ウェッジ ソリューションを一桁上回っています。これは、当社の Z ステージが垂直位置決めアプリケーションにおいて比類のないレベルの精度と安定性を達成できることを意味します。」と述べています。

非線形性や機械的ヒステリシスなど、従来の Z ウェッジ機構に関連する欠点を排除することで、ALIO の独自の設計により、サブナノメートルの分解能で一貫した信頼性の高い垂直移動が保証され、ナノメトロロイのアプリケーションやナノテクノロジー、半導体製造の新たな可能性が開かれます。 、および光学部品の製造により、OEM は従来のソリューションでは以前は達成できなかったレベルのパフォーマンスを達成できるようになります。

モノリシック XY ベース上で垂直 Z ステージを使用すると、お客様のペイロードをステージ上部にモーター、エンコーダー、ベアリング、カウンターバランスとインラインで直接取り付けることができるため、ブラケットの張り出しが最小限に抑えられ、潜在的なアッベ誤差が大幅に減少します (異なる光の波長に対する焦点距離の変化によって発生する光学的歪み。その結果、色にじみや画像の鮮明さの低下が生じます。)

ALIO の XY モノリシック ステージは、これまで前例のないナノメートル精度の移動の真直性と平坦性を導入し、計測 OEM の測定の不確実性を軽減し、品質管理、研究、次世代の製造プロセスにとって重要な、より正確で信頼性の高い測定データを確保します。

詳細については、www.alioindustries.com をご覧ください。

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